納米光刻中的壓電掃描臺(tái)
納米光刻是一種全新的納米圖形復(fù)制方法，實(shí)質(zhì)是將傳統(tǒng)的模具復(fù)型原理應(yīng)用到微觀制造領(lǐng)域。首先計(jì)算機(jī)將BMP圖轉(zhuǎn)化成灰度圖，然后再通過(guò)二維掃描臺(tái)，帶動(dòng)鍍膜鏡片對(duì)讀取的圖像信息進(jìn)行優(yōu)化，同時(shí)控制激光器及掃描臺(tái)，完成圖像的納米定位加工。納米光刻技術(shù)是制作納米結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵，具有廣闊的應(yīng)用前景。
利用芯明天P12系列XY二維掃描臺(tái)，可帶動(dòng)鍍膜鏡片對(duì)讀取的圖像信息進(jìn)行優(yōu)化，同時(shí)控制激光器及掃描臺(tái)，二者配合完成圖像的納米精度加工。
P12.XY100二維壓電掃描臺(tái)
P12.XY100為二維直線掃描臺(tái)，內(nèi)置高可靠性壓電陶瓷，運(yùn)動(dòng)直線性好，臺(tái)體中心圓形通孔孔徑可選25mm 或35mm，滿足精密加工、掃描顯微等應(yīng)用。
開(kāi)/閉環(huán)曲線
注：施加至壓電陶瓷的電壓約為輸入控制電壓的12倍。
閉環(huán)線性度
技術(shù)參數(shù)
型號(hào)：P12.XY100
運(yùn)動(dòng)自由度：X、Y
行程范圍@120V：80μm/軸
行程范圍@150V：100μm/軸
閉環(huán)傳感器：SGS
通孔尺寸：Ø25/Ø35mm
閉/開(kāi)環(huán)分辨率：7/4nm
閉環(huán)線性度：0.1%F.S.
閉環(huán)重復(fù)定位精度：0.05%F.S.
推/拉力：25/8N
剛度：0.2N/μm
空載諧振頻率：X180/Y230Hz
閉/開(kāi)環(huán)空載階躍時(shí)間：15/0.8ms
承載：0.7kg
靜電容量：1.8μF/軸
材質(zhì)：鋼、鋁
重量：200g
17051647888
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